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簡(jiǎn)要描述:日立HITACHI掃描電鏡SU8600高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 SU8600系列*設(shè)備照片包含選配項(xiàng)。
日立HITACHI掃描電鏡
SU8600
高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 SU8600系列
*設(shè)備照片包含選配項(xiàng)。
SU8600系列秉承了Regulus8200系列的高質(zhì)量圖像、大束流分析及長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行的冷場(chǎng)成像技術(shù),同時(shí)還提升了高通量、自動(dòng)數(shù)據(jù)獲取能力。
特點(diǎn)
*高分辨成像
日立的高亮度電子源可保證了即使在低著陸電壓下,也可獲得高分辨的圖像。
高襯度的低加速電壓背散射圖像
3D NAND截面觀察;
在低加速電壓條件下,背散射電子信號(hào)能夠顯示出氧化硅層和氮化硅層的襯度差別。
快速BSE圖像:新型閃爍體背散射電子探測(cè)器(OCD)*
由于使用了新型的OCD探測(cè)器,即使掃描時(shí)間不到1秒,也仍然可以觀察到Fin-FET清晰的深層結(jié)構(gòu)圖像.
自動(dòng)化功能*
EM Flow Creator 允許客戶(hù)創(chuàng)建連續(xù)圖像采集的自動(dòng)化工作流程。EM Flow Creator將不同的SEM功能定義為圖形化的模塊,如設(shè)置放大倍率、移動(dòng)樣品位置、調(diào)節(jié)焦距和明暗對(duì)比度等。用戶(hù)可以通過(guò)簡(jiǎn)單的鼠標(biāo)拖拽,將這些模塊按邏輯順序組成一個(gè)工作程序。經(jīng)過(guò)調(diào)試和確認(rèn)后,該程序便可以在每次調(diào)用時(shí)自動(dòng)獲得高質(zhì)量、重現(xiàn)性好的圖像數(shù)據(jù)。
靈活的用戶(hù)界面
原生支持雙顯示器,提供靈活、高效的操作空間。6通道同時(shí)顯示與保存,實(shí)現(xiàn)快速的多信號(hào)觀測(cè)與采集。
技術(shù)參數(shù)
機(jī)型
SU8600 系列
電子光學(xué)系統(tǒng)
二次電子像分辨率
0.6 nm@15 kV
0.7 nm@1 kV *
放大倍率
20 to 2,000,000 x
電子槍
冷場(chǎng)發(fā)射電子源,支持柔性閃爍功能,包含陽(yáng)極烘烤系統(tǒng)。
加速電壓
0.5 to 30 kV
著陸電壓 *
0.01 to 20 kV
探測(cè)器
(部分為選配項(xiàng))
上探測(cè)器(UD)
UD ExB能量過(guò)濾器,包含SE/BSE信號(hào)混合功能
下探測(cè)器(LD)
頂探測(cè)器(TD)
TD能量過(guò)濾器
鏡筒內(nèi)背散射電子探測(cè)器(IMD)
半導(dǎo)體式背散射電子探測(cè)器 (PD-BSED)
新型閃爍體式背散射電子探測(cè)器(OCD)
陰極熒光探測(cè)器(CLD)
掃描透射探測(cè)器(STEM Detector)
附件
導(dǎo)航相機(jī)、樣品室相機(jī)、X射線(xiàn)能譜儀(EDS)、背散射電子衍射探測(cè)器(EBSD)
軟件
EM Flow Creater、HD Capture( 40,960×30,720 像素以下)
樣品臺(tái)
馬達(dá)驅(qū)動(dòng)軸
5軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)(X/Y/R/Z/T)
X:0~110 mm
Y:0~110 mm
Z:1.5~40 mm
T:-5~70°
R:360°
樣品室
樣品尺寸
直徑可達(dá):150 mm
*減速模式下
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